光明平面曝光显影定做点击了解更多 利成感光

曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺！PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。目前的这项工艺还存在CG成型公差、掩膜版（MASK）公差、掩膜版转印公差、CG与掩膜版定位偏差、与光源平行度5个难点。平面曝光显影定做


电路板的曝光显影方法。由于槽底平面低于电路板表面，而常规加工方法中，曝光用的底片位于电路板表面，因此，底片与槽底图形之间具有一定的高度落差，于是，曝光时容易发生散射，造成曝虚(图形边缘呈现锯齿状)，图形精度差，图形均匀性差的问题。以解决现有技术中对槽底图形曝光时存在的曝虚，图形精度差，图形均匀性差等问题。平面曝光显影定做


曝光显影工艺就是指利用物质这一特点，达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。由于3D曲面CG玻璃需要和中框的结合，但是3D曲面CG玻璃本身物理加工又存在难以去除的公差，在进行曝光工艺加工时工艺误差区间被压缩，东莞市清溪利成曝光显影，主加工各种亮面手机壳LOGO,充电宝,耳机外壳,保温杯,本公司具备有抛光.曝光显影.氧化多年成熟的丰富经验的工艺，出货快捷，欢迎来料打样.洽谈。平面曝光显影定做