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发布时间：2022-03-09 04:04:00 作者：利成感光
曝光显影光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀负胶：聚合物曝光后会由非聚合态变为聚合状态，形成一种互相粘结的物质，是抗刻蚀的，大多数负胶里面的聚合物是聚异戊二烯类型的，早期是基于橡胶型的聚合物；
正胶：其基本聚合物是-甲醛聚合物，也称为-甲醛Novolak树脂，聚合物是相对不可溶的，在用适当的光能量曝光后，光刻胶转变成可溶状态标牌曝光显影抛光
曝光显影光刻胶的表现要素：
分辨率：resolution capability、纵横比-aspect ratio（光刻胶厚度与图形打开尺寸的比值、正胶一般比负胶有更高的纵横比）；
粘结能力：负胶的粘结能力通常比正胶强一些；
曝光速度、灵敏性和曝光源：反应速度越快，在光刻蚀区域晶圆的加工速度越快；灵敏性是与导致聚合或者光溶解发生所需要的能量总和相关的；波长越短的射线能量越高；
标牌曝光显影抛光
曝光显影工艺的制作方法，曝光显影工艺是3D镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3D产品，随着市场对3D镜片产品的需求，曝光显影工艺的要求越来越高。曝光的光源为紫外光，所述紫外光的曝光能量为100～3000mJ。曝光显影工艺针对白色玻璃盖板的曝光显影，良率可达92％以上，砂眼率低于3.2％，透光率低于2.6％，牙缺率低于1.4％。标牌曝光显影抛光
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