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发布时间:2020-04-16 05:32:00 作者:利成感光
1.预喷淋:为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能,先在硅片表面喷上一点去离子水。
2.显影喷淋:在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上,显影喷嘴分为以下几种:E2喷嘴,LD喷嘴,GP喷嘴,MGP喷嘴等。
3.显影液表面停留:为了让显影液与光刻胶进行充分反应,显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
4.显影液去除并且清洗:达到显影时间后,使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止,而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中,晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。
5. 甩干:为了将表面的去离子水甩干,将硅片转到高转速
(1)镀锌镀锌层为防腐性镀层,广泛应用于黑色金属的放腐蚀处理·其镀层弹性好但硬度较低,不适合承受摩擦
(2)镀锡利用锡的可焊性好,在空气中不易变色的特点,常用于铜印线、端子的导电部件,亦可用于食用器皿
(3)镀铜镀铜层为一种重要的预镀层,常用于钢铁件的多层电镀的底层,能提高与机体金属的结合力,亦可提高零件的抗腐蚀性能
(4)镀镍镍在大气中有很好的钝化能力,表面能生成极薄的一层钝化膜,使机体与外界隔绝,以抵御大气、碱等腐蚀·另镀镍层的硬度较高,常用于耐磨性表面上,但单镀层不能作为防护镀层使用。
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