南山手机壳LOGO曝光显影设计择优推荐「多图」

曝光也叫感光，放在已经喷了感光油的产品上面，主要的目的是通过曝光让图案在材料上对应成型，感光(曝光)过程中要特别注意夹具一定要放好，不能歪斜，否则产品图案就会出现歪斜现象，从而产生不良品，也要定期检查，不能出现折叠现象，否则也会出现不良品。渗镀：所谓渗镀，即是由于干膜与覆铜箔板表面粘结不牢，使镀液深入，而造成"负相"部分镀层变厚及镀好的锡铅抗蚀层，给蚀刻带来问题。很容易造成印制电路板的报废，是生产中特别要注意的要点。


蚀刻深度的均匀性主要受4个方面的影响：材料、蚀刻溶液、蚀刻过程的物理参数和蚀刻时间。综上所述，可以知道影响确定蚀刻速度的因素主要有蚀刻深度要求及公差要求。对于蚀刻深度大的工件可以设计成高蚀刻速度的工艺方案当对公差要求高时可采用分次蚀刻的方法进行，即先采用高速度的蚀刻方法，当接近设计要求深度时采用低蚀刻速度的方法来保证公差。对于蚀刻深度浅、公差要求严的工件则应采用蚀刻速度较慢的工艺方法。


曝光显影技术优势：曝光显影技术优势：解决D曲面玻璃(包含面曲)印刷难题;图形转印技术单层、多层套印精度高;雾化喷涂确保厚度均性，提高致密性，降低油墨厚度;采用图形转印技术，良率较高;-寸盖板单制程产能优势明显;较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率，也就是说，只有紫外光能使该油墨产生化学反应，但在曝光时，由于玻璃或聚酯片能把nm以下的紫外光吸收掉，所以必须用—nm以上的强光源。因此，正确的选择光源和科学的使用光源非常重要。目前发射紫外光比较好的光源成为金属卤素灯和高压灯手机壳LOGO曝光显影设计