惠东充电宝标牌曝光显影价格在线咨询「利成感光」

曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性，因此在制作上，需要非常准确和清晰。操作人员要规范作业，避免图案模糊或者移位影响产品品质。经过不断改良和工艺设备发展，曝光就是光圈、快门和感光度ISO的组合。其中光圈和速度联合决定进光量，ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。显影包括正显影和反转显影；正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。


感光(曝光)完成后就要进行下一步工作——显影。显影的目的是通过显影药将未曝光的地方冲走，经过曝光的地方固化，这样就能确定需要被腐蚀和不被腐蚀的图案。以便后续蚀刻加工的精度。一般都是采用氢氧化na水溶液，氢氧化na水溶液浓度大概是5%，温度大约在50摄氏度，浸泡3-5分钟，时间可根据具体情况加长点。氢氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水冲洗，就可以很好地去掉感光蚀刻油墨了。


IMD模内注塑工艺，这是从此物录使用的一种国际流行的工艺，其实这种工艺很早就有了，故事就不再讲了。但由于成本问题真正应用到产品设计领域并不久，IMD工艺采用模内高温注塑，一个手机壳成形需要出模、出片、印刷、盖白、注塑、热压、质检等多个流程，把画面植入壳体中间层，永远不会褪色变黄，壳体抛光，成像立体感强，高清，脏的时候一擦就干净了，相对来说优点还是很多的。