平面曝光显影加工承诺守信

1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。

2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。

3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。

4.显影液去除并且清洗：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。

5. 甩干：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速

(1)不含挥发性有机溶液、污染小、不损害人体健康，固含量100%，不存在因溶液的挥发而带来印刷墨膜厚度前后不一致的问题；

(2)油墨不堵网，有利于精细产品的印刷；

(3)印刷中，不担心溶液对承印物的损坏，油墨品质稳定，干燥墨膜光泽度好，且墨膜耐磨、耐水、耐油、耐溶液性好；

(4)油墨瞬时干燥，可组织快速印刷生产线，大大提高印刷效率；

(5)印刷时节省油墨，溶液型油墨每千克大约可印50㎡，而UV油墨在相同情况下可印70㎡。