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发布时间：2022-07-09 17:59:00 作者：利成感光
显影是在曝光后的重要步骤，利用曝光区域在化学性质上与未暴光的区域不同，在特定的化学溶液中选择性的保留曝光区域（负胶）或者未曝光区域（正胶）的过程。从而获得终所需的光刻胶结构。显影液的开放容器也会从周围空气中吸收二氧化碳，而且其吸收与容器的表面和体积比相关：如果使用烧杯，应该至少每天更换里面的显影液，而较大的容器可以维持数天或数周更换显影液。手机壳曝光显影价格光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀，工艺宽容度：工艺维度越宽，在晶圆表面达到所需要尺寸的可能性就越大；
：是光刻胶层尺寸非常小的空穴，光刻胶层越薄，越多，典型的权衡之一；正胶和负胶的比较：
直到20世纪70年代中期，负胶一直在光刻工艺中占主导地位，到20世纪80年代，正胶逐渐被接受。两者相比优缺点如下：正胶的纵横比更高、负胶的粘结力更强曝光速度更快、正胶的数量更好阶梯覆盖度更好，但成本更高、正胶使用水溶性溶剂显影而负胶使用显影；手机壳曝光显影价格
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