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光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和曝光—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀，

光刻胶的物理属性：

粘度：测试方法有落球粘度计量器、Ostwalk-Cannon-Fenske方法、转动风向标法、粘度单位是厘泊（centipoise），另一种单位称为kinematic粘度，它是centistoke，由 粘度（厘泊）除以光刻胶密度而得到，默认温度为25度；

折射系数：index of refraction，对于光刻胶其折射率和玻璃接近约为1.45；

储存与控制： 光热敏感度、粘度、清洁度…… 

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显影分为正胶显影和负胶显影。正胶显影是将感光部分的光刻胶溶出,留下未感光部分的胶层;负胶显影是将未感光部分的光刻胶溶除,留下感光部分的胶膜。显影液喷洒到晶片上进行显影后,经过漂洗等工艺,很难再进行回收,这样势必消耗大量的显影液,造成浪费。针对这种情况,本文提出了一种间歇悬浮式厚胶显影工艺,很好的解决了上述问题。充电宝标牌曝光显影价格


光刻工艺是半导体制造过程中为重要的步骤之一，包括晶圆表面清洗烘干、匀胶、软烘焙、对准、曝光、显影、硬烘焙、刻蚀、去胶、检测等多道工序。显影过程是显影液与胶膜反应，使被曝光的胶膜（正胶）或未曝光的胶膜（负胶）转化为可溶性物质然后被清洗的过程。不同产品或者不同工艺阶段需要不同的显影工艺，对应不同浓度或不同化学成分的显影液。充电宝标牌曝光显影价格


感光材料曝光后产生的潜影变为可见影像的过程。显影通常有两种方式: (1) 化学显影:用显影剂(氧化剂)等多种药品配成显影液,使感过光的卤化银颗粒发生还原反应,而未感过光的卤化银不受影响,如果采用薄胶自动显影设备进行显影,因为显影时间较长,显影液喷洒到晶片上进行显影后,经过漂洗等工艺,很难再进行回收,这样势必消耗大量的显影液,造成浪费。充电宝标牌曝光显影价格