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发布时间：2022-05-23 11:57:00 作者：利成感光
以前我做过感光板，效果都很好，显影之后清洗完成马上腐蚀，腐蚀时间的也就5分钟搞定，如果三氯化铁浓度高，温度高的话，一般2分钟内完成腐蚀。
前几天又用感光板做电路，显影以后，由于三氯化铁溶液没有准备好，所以先在太阳下暴晒一天（增加感光膜硬度），然后放置了2天，今天腐蚀，然而三氯化铁温度，浓度都相当可以，但是腐蚀效果非常差，前后用时有20分钟，下面是图片。贴片IC的脚印之间我用小刀刻过，防止腐蚀后短路，还有几处腐蚀速度很快也是因为我用刀修理过。剩下的地方腐蚀速度差异非常大。原因我考虑可能是显影以后铜膜钝化了，所以和三氯化铁接触不良导致。有遇到过这样情况的帮我分析一下，解决一下，不胜感激涕零无数！
铭牌曝光显影生产厂商
光刻工艺是半导体制造过程中为重要的步骤之一，包括晶圆表面清洗烘干、匀胶、软烘焙、对准、曝光、显影、硬烘焙、刻蚀、去胶、检测等多道工序。显影过程是显影液与胶膜反应，使被曝光的胶膜（正胶）或未曝光的胶膜（负胶）转化为可溶性物质然后被清洗的过程。不同产品或者不同工艺阶段需要不同的显影工艺，对应不同浓度或不同化学成分的显影液。铭牌曝光显影生产厂商
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