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发布时间：2022-04-30 10:29:00 作者：利成感光
曝光时间过长或曝光不足：在紫外光照射下，吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应，形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。曝光时间过长。当曝光过度时，紫外光透过照相底片上透明部分并产生折射、衍射现象，照射到照相底片不透明部分下的干膜处，使本来不应该发生光聚合反应的该部分干膜，被部分曝光后发生聚合反应，显影时就会产生余胶和线条过细的现象。因此，适当的控制曝光时间是控制显影效果的重要条件。曝光显影订制
什么是曝光显影工艺？不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。曝光显影技术优势1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；
2、图形转印技术单层、多层套印精度高；
3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；
4、采用图形转印技术，良率较高；
5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；在微影曝光工程中，首先要在硅圆片表面均匀地涂布感光性树脂光刻胶，涂布操作需要在涂胶机( Coating)中进行。
曝光显影订制
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