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显影：在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通常指在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程，显影包括正显影和反转显影。正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。曝光显影在3D玻璃盖板印刷装饰工艺中的应用

什么是曝光显影工艺？

不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。

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曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺！冲压需要制作模具，对于设计的配合并不灵活。而蚀刻加工正好可以解决这些问题。蚀刻加工可以针对超薄材料进行同步的模版更改设计，在大批量生产的情况下，其成本是很小的甚至可以忽略不计。而且蚀刻加工工艺不会对材料和零件产生毛剌。表面光洁度完全可满足产品装配的要求。手机壳LOGO曝光显影订制


曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺！PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。目前的这项工艺还存在CG成型公差、掩膜版（MASK）公差、掩膜版转印公差、CG与掩膜版定位偏差、与光源平行度5个难点。手机壳LOGO曝光显影订制

1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路.

2、曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.

3、显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.

在胶片边缘都有标记，有的是数字，有的是线条，这些标记都是经过正常曝光印上的。是曝光过度还是显影过度可以用它作参照。手机壳LOGO曝光显影订制